本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電感耦合等離子體質(zhì)譜法（ICP-MS）測(cè)定硅片表面金屬元素含量的方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅單晶拋光片和硅外延片表面痕量金屬鈉、鎂、鋁、鉀、鈣、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅元素含量的測(cè)定，測(cè)定范圍為108 cm-2～1013cm-2。本標(biāo)準(zhǔn)同時(shí)也適用于硅退火片、硅擴(kuò)散片等無(wú)圖形硅片表面痕量金屬元素含量的測(cè)定。