本標準規(guī)定了采用輝光放電質(zhì)譜(GD?MS)法測量多晶硅中雜質(zhì)元素的測試方法。?本標準適用于多晶硅材料中除氫和惰性氣體元素以外的其他雜質(zhì)元素含量的測定，測量范圍是本方法的檢出限至0.1%（質(zhì)量分數(shù))，檢出限根據(jù)所用儀器及測量條件確定。通過合適的標準樣品校正，也可以測量質(zhì)量分數(shù)大于0.1%的雜質(zhì)元素含量。單晶硅材料中痕量雜質(zhì)元素也可參照本標準測量。
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