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低壓化學(xué)氣相淀積設(shè)備通用技術(shù)條件

標(biāo) 準(zhǔn) 號: SJ/T 10311-1992
替代情況: 替代 SJ/T 10311-1992
發(fā)布單位: 中華人民共和國機械電子工業(yè)部
起草單位: 國營建中機器廠
發(fā)布日期: 1992-06-15
實施日期: 1992-12-01
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更新日期: 2024年09月01日
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內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了低壓化學(xué)氣相淀積(LPCVD)設(shè)備的技術(shù)術(shù)語及薄膜厚度(以下簡稱膜厚)均勻性的計算公式、產(chǎn)品分類、技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則及包裝、運輸、貯存等方面的要求。


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