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平面磁控濺射靶材 光學(xué)薄膜用鈮靶

標(biāo) 準(zhǔn) 號: YS/T 718-2009
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國工業(yè)和信息化部
起草單位: 金川集團有限公司
發(fā)布日期: 2009-12-04
實施日期: 2010-06-01
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更新日期: 2017年03月21日
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內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了平面磁控濺射光學(xué)薄膜用鈮靶材的要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運輸、貯存及訂貨單(或合同)內(nèi)容。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于平面磁控濺射光學(xué)薄膜用鈮靶材。

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*本標(biāo)準(zhǔn)來自網(wǎng)友 lee1004 分享,只作為網(wǎng)友的交流學(xué)習(xí)之用。
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