本文件規(guī)定了采用光學(xué)反射法測試硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。
本文件適用于測試硅片表面生長的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度，也適用于所有光滑的、透明或半透明的、低吸收系數(shù)的薄膜厚度的測試，如非晶硅、氮化硅、類金剛石鍍膜、光刻膠等表面薄膜。測試范圍為15 nm～105 nm。