本標準規(guī)定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次離子質譜檢測方法。本標準適用于用二次離子質譜法(SIMS)檢測鏡面拋光單晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每種金屬總量。本標準測試的是每種金屬的總量,因此該方法與各金屬的化學和電學特性無關。
本標準適用于所有摻雜種類和摻雜濃度的硅片。
本標準特別適用于位于晶片表面約5nm 深度內的表面金屬沾污的測試。
本標準適用于面密度范圍在(109~1014)atoms/cm2 的Na、Al、K 和Fe的測試。本方法的檢測限取決于空白值或計數(shù)率極限,因儀器的不同而不同。?
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