本文件描述了半導體單晶材料在波長0.2μm?300μm范圍內(nèi)透過率的測量方法。
本文件適用于硅、鍺、磷化銦、硒化鎘、硫化鎘、碳化硅、氮化鎵、氧化鎵、藍寶石、金剛石等半導體單晶材料透過率的測定。
半導體單晶材料透過率測試方法支承輥廢舊粘結(jié)釹鐵硼磁體再制造技術(shù)規(guī)范鋼鐵件激光表面淬火三氧化二砷冷軋鈦帶卷再生鉛錠電鍍用銅、鋅、鎘、鎳、錫陽極板
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