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多層金屬薄膜層結(jié)構(gòu)測量分析方法 X射線光電子能譜

標 準 號： T/CSTM 01199-2024
替代情況：
發(fā)布單位： 中關(guān)村材料試驗技術(shù)聯(lián)盟
起草單位：
發(fā)布日期： 2024-01-05
實施日期： 2024-04-05
點 擊 數(shù)：
更新日期： 2024年04月26日
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內(nèi)容摘要

本文件規(guī)定了X射線光電子能譜儀（XPS）深度剖析測量多層金屬薄膜層結(jié)構(gòu)的分析方法。

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