本文件描述了X射線衍射定向和光圖定向測定半導體單晶晶向的方法。
本文件適用于半導體單晶晶向的測定。X射線衍射定向法適用于測定硅、鍺、砷化鎵、碳化硅、氧化鎵、氮化鎵、銻化銦和磷化銦等大致平行于低指數(shù)原子面的半導體單晶材料的表面取向；光圖定向法適用于測定硅、鍺等大致平行于低指數(shù)原子面的半導體單晶材料的表面取向。
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